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Glosario Nanotecnología / Término

Grabado Físico en Seco

Dry Physical Etching

También conocido como grabado por pulverización catódica, es un proceso de bombardeo del objetivo (sustrato) por iones de alta energía (como Ar+) extraídos del plasma con el propósito de remoción de material del objetivo (grabado); es altamente anisotrópico y es un proceso altamente no selectivo de grabado.

Enlace permanente: Grabado Físico en Seco - Fecha: 2016-04-07 03:31:04


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