Grabado Físico en Seco
Dry Physical Etching
También conocido como grabado por pulverización catódica, es un proceso de bombardeo del objetivo (sustrato) por iones de alta energía (como Ar+) extraídos del plasma con el propósito de remoción de material del objetivo (grabado); es altamente anisotrópico y es un proceso altamente no selectivo de grabado.