Litografía por Haz de Electrones
E-beam Lithography
Proceso que usa electrones para crear patrones de enmascarado directamente sobre un sustrato. La longitud de onda de un haz de electrones tiene sólo unos pocos picómetros (10-12 m) comparados con la longitud de onda de 248 a 365 nanómetros de los sistemas tradicionales de enmascarado.